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XPS(X-ray Phothelectron Spectroscopy) 표면 분석 장비
원리: X-ray를 Sample에 조사하여 표면(약 10nm)으로부터 방출되는 광전자의 운동에너지를 수집하여 분석하는 원리
그렇다면 XPS는 XRD와 무엇이 다른가
Source power의 차이
XPS<XRD 이다
조사되는 깊이는 XPS도 수um까지 들어가지만 power가 약하여 내부의 결합은 끊지못해 결합을 끊을수있는 10nm정도까지만 분석이 가능, 추가로 Auger 현상도 일어나 Auger전자도 감지가능하다.
X-ray 발생원리는 간략히 위의 사진을 참고하시면 됩니다. 일반적으로 X-ray source로는 Al, Mg두 가지를 쓰는 경우와
Al단일 source를 쓰는 장비로 나뉩니다. 두 가지를 쓰는 경우는 Sample의 크기가 제한이 걸리기 때문에 Al단일인 경우를 주로 사용합니다.
이러한 XPS는 10nm의 원자를 끊는 파괴분석입니다. 분석가능한 DATA는 성분, 양(절대값X 상대값O), 결합구조
또한 Depth profiling통해 깊이별 원자를 분석가능합니다.
AFM,SEM 등 다양한 측정 분석에 관한 내용도 있습니다.
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