반응형 플라즈마6 HIPIMS란 무엇인가 장점과 단점 그리고 원리 고속 펄스형 자기장 스퍼터링(High Power Impulse Magnetron Sputtering, HIPIMS)은 박막 증착 기술 중 하나로, 높은 전력 밀도의 펄스를 사용하여 타겟 물질을 증착하는 방식입니다. 이 기술은 기존의 자기장 스퍼터링(Magnetron Sputtering) 기술과 비교하여 증착된 박막의 밀도, 부착력, 균일성 등을 크게 향상시키는 특징이 있습니다. HIPIMS는 특히 산업계와 연구 분야에서 고품질 박막이 요구되는 경우에 널리 사용되고 있습니다.HIPIMS의 원리HIPIMS의 작동 원리는 기본적으로 자기장 스퍼터링과 유사하지만, 매우 높은 전력 밀도의 펄스를 사용한다는 점에서 차이가 있습니다. 다음은 HIPIMS의 주요 원리와 과정입니다:고전력 펄스 발생: HIPIMS는 짧은.. 2024. 8. 1. Plasma 기초 8.mfp란 무엇인가 오늘 우리가 알아볼 플라즈마에서 중요한 개념 중 하나인 '평균 자유 행로(Mean Free Path, MFP)'는 챔버네의 입자들이 충돌 없이 이동할 수 있는 평균 거리를 의미합니다. 여기서 평균이란 말이 중요한것은 플라즈마는 국부적이지 않고 챔버 전체에서 벌어지는 일이기에 플라즈마 전체의 평균 거리를 보는게 중요하기 때문. 플라즈마는 이온화된 가스로, 전자와 이온이 높은 에너지를 가지고 서로 충돌하면서 다양한 물리적 현상을 일으킵니다. 평균 자유 행로는 이러한 충돌이 얼마나 자주 발생하는지를 나타내며, 플라즈마의 밀도와 온도에 크게 좌우됩니다.평균 자유 행로의 정의와 계산평균 자유 행로는 다음과 같은 식으로 계산됩니다:λ=a/P(a는 기체의 비례상수 P는 압력) 이 식은 입자들이 서로 충돌할 확률을 .. 2024. 8. 1. plasma 기초 7. 양극성 확산 (ambipolar diffusion)란 무엇인가 어릴적에 친구들과 장난처럼 볼펜 양쪽을 양손으로 빠르게 쥐었다가 폈다하면 왠지 모르게 볼펜이 짧아져보이는 재미난 놀이가? 있었습니다. 물론 오늘 설명할 양극성 확산과는 전혀 상관이 없는 내용이지만 움직임이 뭔가 비슷한 느낌이여서.. 아무튼 오늘은 양극성 확산에 관련한 내용입니다. 앞에서 계속해서 설명드린것처럼 플라즈마는 준중성상태이지만 전자가 이온보다 매우 빠르기 때문에 여러가지 신기한 현상들이 일어납니다. 그중에서도 플라즈마의 준중성 상태를 유지시켜주는 아주 핵심적인 기능을 하는게 바로 양극성 확산입니다. 앞서 설명한것처럼 전자는 이온보다 매우!!!! 비교도 안될만큼 빠릅니다. 하나의 생각을 해보면 양극이 있고 그중에서 왼쪽에 양극이 켜진다면 순간적으로 전자는 기판쪽으로 몰리게 됩니다. 즉 중성이 깨질.. 2022. 9. 19. plasma 기초 5. 전자와 이온의 속도로 인한 플로팅 전위(floating potential) 간단하게 플라즈마는 전자와 이온의 집합체라고 할 수 있다. 플라즈마가 유지되는것은 일반적으로 여기와 이완 그리고 이온화와 재결합을 계속해서 반복하면서 유지된다. 이를 유지시키기 위해서는 외부의 에너지가 반드시 필요한데 실질적으로 그 힘은 전기장이다. 전기장은 플라즈마에서 전자와 이온에만 직접적으로 영향을 준다. 플라즈마에서 이온은 전자보다 무겁다. 또한 플라즈마내에서는 많은 충돌이 일어나지만 이온이 위치를 이탈할 경우는 거의 없다. 이는 중성자와 이온이 충돌로 인해 에너지를 거의 잃지 않게되고 이러한 결과로 전자는 오히려 높은 운동 에너지를 얻게된다. 일반적으로는 2~8eV를 가진다. 이렇게 보면 당연히 운동 에너지를 많이 얻고 가벼운 전자가 이온보다 더 빠른 속도를 가진다는것을 알 수 있다. 대략적으로.. 2022. 6. 21. 이전 1 2 다음 반응형
