XPS분석 원리/방법/분석가능data

XPS(X-ray Phothelectron Spectroscopy) 표면 분석 장비

원리: X-ray를 Sample에 조사하여 표면(약 10nm)으로부터 방출되는 광전자의 운동에너지를 수집하여 분석하는 원리

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그렇다면 XPS는 XRD와 무엇이 다른가

Source power의 차이

XPS<XRD 이다

 

조사되는 깊이는 XPS도 수um까지 들어가지만 power가 약하여 내부의 결합은 끊지못해 결합을 끊을수있는 10nm정도까지만 분석이 가능, 추가로 Auger 현상도 일어나 Auger전자도 감지가능하다.

 

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X-ray 발생원리는 간략히 위의 사진을 참고하시면 됩니다. 일반적으로 X-ray source로는 Al, Mg두 가지를 쓰는 경우와

Al단일 source를 쓰는 장비로 나뉩니다. 두 가지를 쓰는 경우는 Sample의 크기가 제한이 걸리기 때문에 Al단일인 경우를 주로 사용합니다.

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이러한 XPS는 10nm의 원자를 끊는 파괴분석입니다. 분석가능한 DATA는 성분, 양(절대값X 상대값O), 결합구조

 

또한 Depth profiling통해 깊이별 원자를 분석가능합니다.

 

AFM,SEM 등 다양한 측정 분석에 관한 내용도 있습니다.

AFM이란 측정원리/이미징/해상도/MODE/반데르발스

 

SEM(Scanning Electron Microscope) 원리/해상도/이미징/탄소측정/EDS-SEM

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