반응형 반도체 분석3 AFM분석 원리/해석/장치/기기 AFM은 현재 가장 널리 쓰이는 Scanning Probe Microscope(SPM) 중의 하나로 원자현미경이다. 원자힘현미경은 시료 표면의 원자 혹은 분자와 캔틸레버라고 하는 막대에 달린 나노 크기의 바늘(탐침, 팁)간의 상호작용에 의해 휘어지는 캔틸레버를 레이저가 인식하면서, 시료 표면의 일정 면적에 대한 스캔을 통해 표면의 높낮이 구조를 영상으로 재구성 시키는 현미경이다. 이러한 원리를 이용하여 진공, 공기, 액체와 같은 다양한 환경에서 시료의 나노미터 크기에 대한 정보를 얻을 수 있기 때문에 원자힘현미경은 생명과학연구, 반도체 제작, 나노입자 개발 등의 다양한 분야에서 널리 활용되고 있다. AFM은 캔틸레버라 불리는 장치 끝에 매우 미세한 탐침을 부착하여 제작한다. 캔틸레버는 일반적으로 실리.. 2021. 6. 30. Ellipsometer 측정원리/분석/종류/그래프 해석 엘립소미터 원리-편광의 정도를 알고 있는 빛을 측정하고자 하는 물질에에 조사시키면 시료표면에 의해 반사되는 편광상태가 바뀌며, 이 빛의 편광상태를 측정하여 박막의 두께 및 굴절률을 알 수 있다. 엘립소는 다음과 같은 특징을 가진다 측정두께:~10um(장비별 편차 유) 비파괴분석 광학장비이지만 암실필요x 측정된 값들을 그대로 사용할 수는 없고 나온 값들을 적절히 모델링하여 매칭시켜 사용한다. 일반적으로 분석해낼 수 있는 data들은 다음과 같다. 일반적으로 위와같은 data를 얻을수 있으며 layer층에 대한 두께를 나타낸다. 위의 무수히 찍힌 점들과 기존의 모델링 line이 맞다면 두께에 대한 신뢰성이 있다고 판단할 수 있다. 다만 정확히 몇%가 점과 라인이 일치하는지는 나타나지 않아 측정자의 판단이 필.. 2021. 5. 11. XRD의 원리와 분석방법 XRD원리-브래그법칙 X-ray의 각도에 따라 각 원자에서 반사된 X선의 위상차가 다르게 나타납니다. 진행상 경로차는 2d sinθ로, 세타값에 따라 변합니다. 이때 X선의 위상차이를 만드는 경로차가, 표면에 조사해준 X선의 파장과 어떤 관계를 가지냐에 따라 중첩된 반사광(=원자를 맞고 반사된 X선)은 보강간섭을 하기도 하고 안하기도 합니다. 발생된 X선의 경로차는 특정θ값에서 보강간섭을 일으킵니다. 이 경우에 X-ray의 Intesity가 높게나오는데 이를 Peak로 삼아 해당 물질을 확인하는게 XRD의 원리입니다. 일반적인 경우 x축을 2θ, y축을 intensity로 놓고 그래프를 그립니다.(물론 손이아니라 기계가^^) 위와같은 그래프는 결정질 구조에서 나타나는데 규칙적인 배열을 이룰때 반사되는.. 2021. 5. 7. 이전 1 다음 반응형
