반응형 반도체분석2 FIB 분석 및 원리 (Focused Ion Beam) 가공과 분석이 모두 가능한 고오급 장비 안녕하세요 오늘은 FIB (Focused Ion Beam)를 알아보도록 하겠습니다. FIB는 FBI처럼(...죄송합니다) 범죄에 집중하듯 집중된 이온 빔을 사용하여 물질의 표면을 가공하거나 분석하는 고오급 나노기술 도구입니다(고오급 이라 표현한 이유는 비싸기 때문) FIB는 주로 반도체 산업 및 나노기술 연구에서 사용되며 다양한 응용 분야에서 유용하게 활용됩니다. FIB의 작동 원리는 다음과 같습니다: 1.이온 발생: FIB 시스템에서는 일반적으로 갤리움(Ga) 또는 자체 톰슨(T) 이온을 사용합니다. 갤리움 이온은 일반적으로 이용되며, 갤리움을 고온에서 가열하여 생성된 이온을 이용합니다. 2.이온 표시 및 집중: 생성된 이온은 전자 렌즈 시스템을 통과하여 집중되고, 컴퓨터 제어 시스템을 사용하여 이온 .. 2023. 11. 15. EDS의 원리 및 분석 (왜 에닥스 EDAX,EDX라 하는가?) EDS는 Energy Dispersive Spectrometer의 약자입니다. EDX 또는 EDAX로 불리기도하는데 주로 말하는 에닥스(EDAX)는 최초의 EDS를 만든회사로 EDS라고 불러주시는게 맞는듯합니다. 아무튼 EDS의 원리를 말하기에 앞서 현대에 사용하는 대부분의 표면 분석법들은 표면에 무언가를 쏘아서 거기서 나온 2차전자나 원소나 어떤것을 분석하는 장비가 대부분입니다. EDS도 여기에 속하는 분석법입니다. EDS는 전류를 인가해 전자를 가속시켜 쏘아보냅니다. 어디로? 바로 시료의 표면으로. 이때 강력한 충돌로 시료 표면에서는 외부전자가 들어가는 대신 내부의 전자가 나오게 됩니다. 이를 보통 이차전자(Secondary electron)라고 합니다. 여기서 이차전자를 분석하면 다른 분석장비가 .. 2023. 11. 7. 이전 1 다음 반응형
