반응형 반도체 플라즈마2 plasma 기초 5. 전자와 이온의 속도로 인한 플로팅 전위(floating potential) 간단하게 플라즈마는 전자와 이온의 집합체라고 할 수 있다. 플라즈마가 유지되는것은 일반적으로 여기와 이완 그리고 이온화와 재결합을 계속해서 반복하면서 유지된다. 이를 유지시키기 위해서는 외부의 에너지가 반드시 필요한데 실질적으로 그 힘은 전기장이다. 전기장은 플라즈마에서 전자와 이온에만 직접적으로 영향을 준다. 플라즈마에서 이온은 전자보다 무겁다. 또한 플라즈마내에서는 많은 충돌이 일어나지만 이온이 위치를 이탈할 경우는 거의 없다. 이는 중성자와 이온이 충돌로 인해 에너지를 거의 잃지 않게되고 이러한 결과로 전자는 오히려 높은 운동 에너지를 얻게된다. 일반적으로는 2~8eV를 가진다. 이렇게 보면 당연히 운동 에너지를 많이 얻고 가벼운 전자가 이온보다 더 빠른 속도를 가진다는것을 알 수 있다. 대략적으로.. 2022. 6. 21. Plasma 기초 1. 플라즈마 발생 원리와 특징 그동안 여러가지 진공과 펌프 그리고 반도체 기초와 공정에 관련된 글을 배워왔다. 물론 결국은 반도체 공정에 대한 이해를 위해 배우는것들이지만 그중에서도 제일 중요한건 이 플라즈마 아닐까..?(물론 그건 개바개) 어쨌거나 우리는 반도체 공정 대부분을 이해하기 위해서 플라즈마를 배워야한다. 그렇다면 플라즈마란 무엇이고 어떤 특성을 지닐까? 우리가 흔히 아는 플라즈마를 떠올리면 위의 사진과 같다. 어딘가 서양의 마녀가 손을 둥글둥글 돌리면 다른 사람을 훔쳐볼 수 있을것같은 느낌의 원형 구, 이것도 플라즈마 원리로 이루어진것이다. 플라즈마는 물질의 제 4상태로 정의되어있다. 고체, 액체, 기체, 그리고 플라즈마이며 기체에서 한단계 더 나아간 형태로 보면된다. 어떤 형태냐면 기체상태는 분자와 원자로 이루어진 수많.. 2022. 1. 21. 이전 1 다음 반응형
