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반도체62

FIB 분석 및 원리 (Focused Ion Beam) 가공과 분석이 모두 가능한 고오급 장비 안녕하세요 오늘은 FIB (Focused Ion Beam)를 알아보도록 하겠습니다. FIB는 FBI처럼(...죄송합니다) 범죄에 집중하듯 집중된 이온 빔을 사용하여 물질의 표면을 가공하거나 분석하는 고오급 나노기술 도구입니다(고오급 이라 표현한 이유는 비싸기 때문) FIB는 주로 반도체 산업 및 나노기술 연구에서 사용되며 다양한 응용 분야에서 유용하게 활용됩니다. FIB의 작동 원리는 다음과 같습니다: 1.이온 발생: FIB 시스템에서는 일반적으로 갤리움(Ga) 또는 자체 톰슨(T) 이온을 사용합니다. 갤리움 이온은 일반적으로 이용되며, 갤리움을 고온에서 가열하여 생성된 이온을 이용합니다. 2.이온 표시 및 집중: 생성된 이온은 전자 렌즈 시스템을 통과하여 집중되고, 컴퓨터 제어 시스템을 사용하여 이온 .. 2023. 11. 15.
ICP MASS 분석 및 원리 (FEAT. ICP-OES) 안녕하세요 오늘은 ICP-MS로 불리는 분석에 관해 알아보겠습니다. ICP-MS는 (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)의 약자로 주로 정성분석에 관한 분석을 진행할때 많이 쓰입니다. 즉 원하는 시료에 어떤 물질이 있는가를 보기위한 분석입니다. 분석 원리에 대해 먼저 설명하자면 ICP PLASMA (원형으로 돌아가는 전자기장에서 충돌로 인해 발생한 플라즈마)중에서도 아르곤(Ar)플라즈마를 형선한다. 이때 시료를 넣게되고 고온의 플라즈마 상태에서 시료또한 이온화 됩니다. 이때 고체의 물질은 산으로 분해하여 그 분해한 액체를 분석하게 됩니다. 일반적으로 ICP-MS는 그 이름처럼 MASS 즉 질량을 비교하게 됩니다. 즉 이미 많은 아르곤 플라즈마에서 아르곤의 질량.. 2023. 11. 10.
EDS의 원리 및 분석 (왜 에닥스 EDAX,EDX라 하는가?) EDS는 Energy Dispersive Spectrometer의 약자입니다. EDX 또는 EDAX로 불리기도하는데 주로 말하는 에닥스(EDAX)는 최초의 EDS를 만든회사로 EDS라고 불러주시는게 맞는듯합니다.  아무튼 EDS의 원리를 말하기에 앞서 현대에 사용하는 대부분의 표면 분석법들은 표면에 무언가를 쏘아서 거기서 나온 2차전자나 원소나 어떤것을 분석하는 장비가 대부분입니다. EDS도 여기에 속하는 분석법입니다. EDS는 전류를 인가해 전자를 가속시켜 쏘아보냅니다. 어디로? 바로 시료의 표면으로. 이때 강력한 충돌로 시료 표면에서는 외부전자가 들어가는 대신 내부의 전자가 나오게 됩니다. 이를 보통 이차전자(Secondary electron)라고 합니다. 여기서 이차전자를 분석하면 다른 분석장비가 .. 2023. 11. 7.
반도체 기초 5. CVD ALD PVD 공정의 차이점과 장단점 안녕하세요 오늘은 반도체 공정 관련한 기초인 PVD(Physical vapor deposition), CVD(Chemical vapor deposition), ALD(Atomic layer deposition)에 대해 간략하게 알아보겠습니다. 또한 PVD CVD ALD의 각 공정의 차이점과 장단점에 대해서도 알아보겠습니다. 우선 PVD입니다. Physical 이라는 말에서 알 수 있듯이 물리적인 에너지로 증착을 시키는 장비입니다. 열,충격 등 다양한 방법으로 가능하며 그것에 따라서 스퍼터링방법, 열 증착방법으로 나뉩니다. PVD 를 이해하는 방법은 간단합니다. 위나 아래에 타겟이 있고 그 반대면에 증착하려는 기판이 있는 상태에서 열이나 스퍼터링으로 타.겟.을 괴롭힙니다. 그러면 타겟의 표면에서 증착하고자.. 2023. 10. 12.
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