반응형 반도체공부15 반도체 기초1. 재료의 종류 (금속, 세라믹, 고분자) 우리가 Semiconductor라고 부르는 반도체를 만드는 과정을 이해하기위해서는 생각보다 많은 노력이 필요하다. 요즘 '심심한 사과' 라는말이 뭐 진짜 심심하다 뭐 이렇게 논란이 될 만큼 어휘력에 문제가 있는데 반도체는 관련해서 업종내에서 쓰는 말들도 상당히 많고 단어를 전문적이게 사용하기에 우리는 말과함께 그 원리까지 다 배워야한다. 잠깐 이야기가 새버렸지만 우리가 배울 반도체는 그야말로 반도체이다. 반은 도체이며 반은 부도체로 딱 나뉜것은 아니고 상황에 따라 도체와 부도체로 사용된다는것. 이렇듯 반도체를 배울때는 말이 상당히 중요하고 기초적이다. 그리고 앞에나온 반도체나 도체, 부도체 또한 기초적인 단어이며 우리는 여러가지 재료를 먼저 알아야 반도체를 이해하고 사용할 수 있다. 우선 반도체에는 가스.. 2022. 9. 26. plasma 기초 7. 양극성 확산 (ambipolar diffusion)란 무엇인가 어릴적에 친구들과 장난처럼 볼펜 양쪽을 양손으로 빠르게 쥐었다가 폈다하면 왠지 모르게 볼펜이 짧아져보이는 재미난 놀이가? 있었습니다. 물론 오늘 설명할 양극성 확산과는 전혀 상관이 없는 내용이지만 움직임이 뭔가 비슷한 느낌이여서.. 아무튼 오늘은 양극성 확산에 관련한 내용입니다. 앞에서 계속해서 설명드린것처럼 플라즈마는 준중성상태이지만 전자가 이온보다 매우 빠르기 때문에 여러가지 신기한 현상들이 일어납니다. 그중에서도 플라즈마의 준중성 상태를 유지시켜주는 아주 핵심적인 기능을 하는게 바로 양극성 확산입니다. 앞서 설명한것처럼 전자는 이온보다 매우!!!! 비교도 안될만큼 빠릅니다. 하나의 생각을 해보면 양극이 있고 그중에서 왼쪽에 양극이 켜진다면 순간적으로 전자는 기판쪽으로 몰리게 됩니다. 즉 중성이 깨질.. 2022. 9. 19. plasma 기초 5. 전자와 이온의 속도로 인한 플로팅 전위(floating potential) 간단하게 플라즈마는 전자와 이온의 집합체라고 할 수 있다. 플라즈마가 유지되는것은 일반적으로 여기와 이완 그리고 이온화와 재결합을 계속해서 반복하면서 유지된다. 이를 유지시키기 위해서는 외부의 에너지가 반드시 필요한데 실질적으로 그 힘은 전기장이다. 전기장은 플라즈마에서 전자와 이온에만 직접적으로 영향을 준다. 플라즈마에서 이온은 전자보다 무겁다. 또한 플라즈마내에서는 많은 충돌이 일어나지만 이온이 위치를 이탈할 경우는 거의 없다. 이는 중성자와 이온이 충돌로 인해 에너지를 거의 잃지 않게되고 이러한 결과로 전자는 오히려 높은 운동 에너지를 얻게된다. 일반적으로는 2~8eV를 가진다. 이렇게 보면 당연히 운동 에너지를 많이 얻고 가벼운 전자가 이온보다 더 빠른 속도를 가진다는것을 알 수 있다. 대략적으로.. 2022. 6. 21. 반도체 공정 기초 3. High k와 Low k 의미와 비교 "High-k, Low-k" 우리가 반도체를 공부하며 많이 듣는 이야기이지만 명확히 어떤의미를 지니는지는 헷갈리는게 일반적이다. 처음에 반도체를 만들때에는 그저 SiO2면 충분했다. 그러나 시간이 지나면서 점차 High-k와 low-k를 가진 물질을 찾기 시작했고 최근에는 여러 다양한것들이 논의중이다. 그렇다면 왜 SiO2는 대체되기 시작했을까? 위 그림에서 보다시피 시간이 지나면서 소자가 점점 미세화되기 시작했다 특히나 10nm밑으로 진행되면서 gate insulator가 제 역할을 못하게되었다. 원래는 소자간 전류를 원할때만 통하게 해야하는데 넣으면 흘러버리는 전류로 인해 소자가 불능이 되어버리게 된다. 그래서 high-k와 lok-k가 대두되기 시작한것. 그렇다면 두개는 무엇을 의미할까 그 이전에 .. 2022. 1. 20. 이전 1 2 3 4 다음 반응형
