반응형 반도체13 Pump에서 Conductance란 Conductance라는 말은 여기저기 굉장히 많이 쓰인다. 전기에서는 전류의 흐름이 얼마나 잘 흐르는가를 판단하는 척도로 쓰이고 열에서는 열의 이동이 얼마나 원활한가에 대한 척도로 쓰인다. 그러나 우리는 지금 펌프를 공부하고 있으니 pump에서는 어떤 의미로 쓰이는지 알아보자 앞선 두 경우의 전기와 열에서의 이야기처럼 pump에서도 conductance라는 말은 흐름에 관한 이야기이다. 챔버를 진공을 만들기위해 얼마나 gas를 잘 흘려 내보낼 수 있냐는 의미로 보통 쓰이는데 이건 앞서 말했던 Pumping speed나 throughput이랑은 좀 다른 이야기이다. 왜냐하면 펌프는 단일로 이뤄진게 아니고 챔버와 펌프사이에는 배관이 있다. 배관의 크기는 작거나 크거나 펌프에 맞춰져 있어야하고 이때 챔버의 .. 2021. 12. 24. 가스의 압력에 따른 흐름 viscous flow VS molecular flow 반도체 공정에서 대부분은 고진공(high vaccum)을 사용한다. 이런 일반적인 사용의 이유는 미세선폭으로 인해 보다 정밀하게 gas량을 조절해야함의 필요성과 공정 gas가 아닌 particle이나 다른 gas의 간섭을 막기위함이다. 우선 자연의 가스 흐름은 대부분 viscous flow(점성 유체)를 따른다. 이 경우에는 mfp가 짧고 계속해서 다른 원자들과 부딪히면서 이동하므로 압력이 높을경우 원자들은 개별적으로 행동하기 보다는 계속해서 이어지는 하나의 흐름을 가지면서 움직인다. 간단하게 떠올리면 흐르는 하천의 물을 생각하면 이해하기 쉽다. 보통은 viscous flow로 불리고 laminar flow(층류)로도 쓰인다. 그리고 고진공으로 오게되면 mfp는 매우 길어진다. 다른 원자들과의 충돌도 현.. 2021. 12. 22. mean free path(mfp-평균자유행로) 의미 mfp 일명 평균자유행로라 일컬어지는 이 말은 가스 원자들이 다른 가스 원자를 만나 충돌할 수 있는 평균 거리를 나타낸것을 의미한다. 간단하게 말하면 가스가 다른 가스와 부딪힐때까지 이동하는 거리의 평균을 의미하는것. 일반적으로 압력이 높을수록(동일 공간내에 가스가 많을수록) 반대로 공간이 좁을수록(동일 가스량 가정)평균자유행로 즉 mfp는 줄어든다 일반적으로 1mtorr의 상온에서 아르곤의 mfp는 약 8cm이고 다른 가스들은 평균적으로 이 3배 안의 값을 가진다. 원자간에 상호작용이 없다고 가정하면 충돌할 확률은 일반적으로 원자크기에 비례한다. mfp의 기호는 λ(람다)로 쓰고 공식은 다음과 같다 λ=v/θ (v는 평균속도, θ는 평균 초당 충돌회수) =1/N*A(N은 기체의밀도,A는 공간의 부피) .. 2021. 12. 21. GAS 공부하기1-1 -원자의 운동과 압력 닫힌계에서 원자는 에너지를 흡수하게된다. 벽이나 주변환경에서 나오는 방사선같은, 그리고 흡수한 에너지를 운동에너지로 바꿔 가지고있게 된다. 닫힌계라 할 지라도 원자나 원자에게 에너지를 전해주는 매개체인 주변환경에도 원자는 존재하기때문에 계속해서 에너지의 충돌이 일어나고 이러한 원자들의 진동(움직임)은 계속해서 상호간에 에너지를 전달하게 된다. 그리고 이러한 원자의 움직임은 운동에너지량으로 계산될 수 있는데 식은 다음과 같다. 1/2mc2=3/2kT m은 원자의 질량 c는 평균속도를 k는 볼츠만 상수, T는 온도를 이야기한다. 이렇게 에너지를 가진 입자는 닫힌계에서도 계속 운동하며 이 에너지를 가지고 운동한다. 그렇게 주변으로 이동하다가 반드시 벽에 부딪히게되는데 이는 에너지의 전달로 일어나고 이 에너지의.. 2021. 12. 16. 이전 1 2 3 4 다음 반응형