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반도체 공정 기초 3. High k와 Low k 의미와 비교 "High-k, Low-k" 우리가 반도체를 공부하며 많이 듣는 이야기이지만 명확히 어떤의미를 지니는지는 헷갈리는게 일반적이다. 처음에 반도체를 만들때에는 그저 SiO2면 충분했다. 그러나 시간이 지나면서 점차 High-k와 low-k를 가진 물질을 찾기 시작했고 최근에는 여러 다양한것들이 논의중이다. 그렇다면 왜 SiO2는 대체되기 시작했을까? 위 그림에서 보다시피 시간이 지나면서 소자가 점점 미세화되기 시작했다 특히나 10nm밑으로 진행되면서 gate insulator가 제 역할을 못하게되었다. 원래는 소자간 전류를 원할때만 통하게 해야하는데 넣으면 흘러버리는 전류로 인해 소자가 불능이 되어버리게 된다. 그래서 high-k와 lok-k가 대두되기 시작한것. 그렇다면 두개는 무엇을 의미할까 그 이전에 .. 2022. 1. 20.
반도체 공정 기초 2. STI(Shallow Trench Isoltion)공정 Feat.LOCOS 공정 생각을 떠올려보자 열심히 노력해서 두 개의 소자를 만들어 냈다고 가정하고 기대감에 스위치를 켰는데 이게 웬일 전류는 분명 흐르는데 소자가 작동을 안한다. 알고보니 떨어뜨려 놨다고하는게 다시보니 붙어가지고 이래저래 전류가 누설중이다. 이렇게 생각한일들이 계속해서 발생한다면 소자가 계속해서 망가진거고 이는 칩 수율이 낮아지는 결과를 불러일으킨다. 한마디로 돈이 안된다는것. 반도체 공정은 많은 문제가 있지만 특히나 누설전류나 일명 쇼트라고 불리는 전자의 흐름이 막히는것들이 생긴다. 이런것을 막기위해서 먼저 생긴 공정이 LOCOS(Local Oxidation of silicon process)이다. 초기에는 이 문제를 잘 제어했으나 선폭이 미세화되면서 점차 문제가 생기기 시작했다. 그것은 바로 열적 산화로 만드.. 2022. 1. 19.
반도체 공정 기초1. step coverage, Aspect ratio란 무엇인가 오늘은 반도체 공정의 기초 시간입니다. 우리가 공부하면서 CVD,PVD,ALD 등등 많은 공정들을 배우는데 거기서 나오는 단어가 있습니다. 바로 step coverage, Aspect ration죠. 어딘가 쉬우면서도 비슷한 개념때문에 혼동되는 경우가 많은데 오늘 확실히 집고 넘어가도록 하겠습니다. 먼저 step coverage란 개념은 반도체 공정의 작업이 평평하지 않은데서부터 시작합니다. 우리가 배선을 심고 전신주 공사를 하기 위해서는 땅을파죠. 그리고 땅을 파놓은곳에다가 이것저것 넣고 그 위에 무언가를 세웁니다. 이런식으로 반도체 공정도 동일합니다. 평평한 Si Wafer에 구멍도 내고 그 안에다 다양한 물질들을 넣어 우리가 원하는 특성을 이끌어내는거죠. 그런데 여기서 문제가 발생합니다. 나는 파놓.. 2022. 1. 18.
oh my blog 1. -티스토리 블로그 애드센스 승인과 수익 작년 5월 부족한 돈을 메꾸려고 기세등등하게 만들었던 티스토리 블로그.. 그러나 3개월간 8개라는 처참한 포스팅으로 막을 내리는줄 알았으나! 12월 요즘 유행하는 X같이 부활한 나의 티스토리 블로그. 다시 글을 천천히 올리며 얼마 전 애드센스 수익을 만들었다. 물론 너무나 귀엽고 쬐끄만 수익이지만... 5월달부터 현재까지는 총 30개의 글을 발간했고 12월 15일 다시 글을 쓰러와서는 20개 가량의 글을 만들어내었다. 전공글이라서 술술 써질줄 알았지만 이미 졸업한지 5년이 지난 내 머리는 도저히 움직일 생각을 안하고 글 하나하나 쓰는게 시간도 많이 잡아먹고 왠지 모르게 다른 글에 있는 사진을 퍼오는건 도저히 용납이 안돼 그림판으로 그리고 있자니 시간도 오래 걸리고 퀄리티도 엄청 떨어진다. 그러나 남자가 .. 2022. 1. 18.
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